Zunächst
würden wir uns all jenen bedanken, die uns in den letzten
Jahren unterstützt haben.
Unsere Wurzeln begannen 1921, als der Gründer Katsujiro Kobayashi
in einem japanischen Marinearsenal mit der Forschung über
Flachpoliertechnologien.
Später gründete Kobayashi ein Unternehmen, das spezielle optische
Messgeräte herstellt, das „Rex Optical Research Center“.
Im Jahr 1963, bekannt als das Geburtsjahr der japanischen
Halbleiterindustrie, wurde das Unternehmen in „Rex Optical
Meter Works Ltd.“ umbenannt und begann mit Polier- und Bearbeitungsdienstleistungen
des Halbleiters.
Im Jahr 1983, als das Büro nach Fukuoka verlegt wurde, wurde
eine neue Firma „Rokko Electronics“ gegründet, um das Halbleitergeschäft
von „Rex“ zu übernehmen.
Halbleitertechnologien sind in unserem täglichen Leben weit
verbreitet und entwickeln sich zu einer treibenden Kraft,
die die Entwicklung der Informationstechnologie beschleunigt.
Von diesem Standtpuknt aus beschloss Rokko, sich auf die Bearbeitung
von Siliziumwafern zu konzentrieren, wozu das Spiegeln der
Wafer, das beidseitige Polieren und das Schleifen der Rückseite
gehören. Zusätzlich werden 1994 Wafer-Rückgewinnungsverfahren
eingeführt.
Rokko erweiterte das Geschäft für Verarbeitung von Siliziumprodukten,
indem die hochmodernen Ausrüstungen wie Großflächenpolierer,
Schleifer, Läpper und die verschiedenen Messwerkzeug installiert
wurden, um die kombinierten Dienstleistungen des Schleifens,
Polierens und Ätzens anzubieten. Nach all diesen Jahren sind
Rokkos Bemühungen immer noch auf die Unternehmenspolitik „Bessere
Produkte schneller, billiger und sicherer zu machen“ ausgerichtet,
Das Unternehmen wird auch weiterhin die Qualität seiner Dienstleistungen
und Technologien durch Kreativität und Innovationsfähigkeit
verbessern und ein besseres Unternehmen, um vertraut und von
der Gesellschaft erwartet zu werden. Jeder Mitarbeiter von
Rokko wird sich bemühen dieses Ziel zu erreichen.
▼ Unternehmensphilosophie
Einen rücksichtsvollen Service zu bieten, der Erwartungen der Kunden
übertrifft.
Durch Kundenzufriedenheit zu wachsen und zu verbessern und neuen
Wert zu schaffen, um Neukunden zu finden.
Durch den oben genannten Erfolg mehr Glück für alle Mitarbeiter
und ihre Familien zu streben.
▼ Firmenübersicht
Firmenname
Rokko Electronics Co., Ltd.
Adresse
8-5, Nakajimacho, Nishinomiya-city,
Hyogo, 663-8105, Japan
TEL
FAX
81-798-65-4508
81-798-67-5038
Gründung
'September 1983
Stammkapital
375.000 USD (30 Millionen Yen)
Vorstand
Präsident Hidemori Kobayashi
Verbundenes Unternehmen
Rex Optical Meter Works Ltd.
Stellenbeschreibung
Bearbeitung von Siliziumwafern
Rückerstattung
Polieren
Schleifen
Die MEMS-kompatible Dünnwaferschleifen und -polieren
Besondere Verarbeitung
Radierung
▼ Geschichte
März,
1921
Der Gründer, Katsujiro Kobayashi, begann mit
deutschen Ingenieuren in einem japanischen Marinearsenal mit
der Forschung über Flachpoliertechnologien. Später wechselte
er zur Firma „Japanese Optical Industries“ (ehemals Nikon)
und arbeitete im Bereich Polieren.
1932
„Kobayashi Optical“ wurde in Tokio
gegründet.
Verkaufsaktivitäten für optische Messgeräte und spezielle
Poliermaschinen begonnen.
März,
1947
Nach dem Zweiten Weltkrieg wurde das Unternehmen
nach Nishimiyashi, Hyogo Präfektur, verlegt und als Hersteller
von speziellen optischen Messgeräte in „Rex Optical Research
Center“ umbenannt.
April,
1960
den Halbleiter-Polierservice gestartet
Juni,
1963
In “Rex Optical Measurement Unit Manufacturing
Company” reorganisiert und umbenannt.
Das Siliziumwafer-Poliergeschäft begonnen.
September,
1983
Rokko Electronics wurde gegründet, um das Halbleiterservice
zu übernehmen. Rex wurde an den Standort von Mitsubishi Electric
(Fukuoka) verlegt.
Juli,
1994
Fabrik B wurde gebaut, um Wafer-Rückgewinnungsverfahren
zu entwickeln. Große Poliermaschinen und RCA-Reinigungsanlagen
wurden installiert.
Mai,
2001
ISO 14001 Zertifikat erhalten
Februar,
2005
MEMS-kompatible Dünnwafer-Poliermaschinen wurden
installiert.
März,
2005
ISO 9001:2000 Zertifikat erhalten
November,
2012
für herausragenden Leistungen mit dem “NISHINOMIYA
TECH PRIZE” von der Stadt Nishinomiya ausgezeichnet
Januar,
2017
Hidemori Kobayashi wurde zum Präsidenten ernannt
Januar,
2017
Neue Fabrik für Wafer aus neuem Material in
Betrieb genommen: SiC, Saphir, LT, usw.
Zunächst
würden wir uns all jenen bedanken, die uns in den letzten
Jahren unterstützt haben.
März,
1921
