作為擔負著半導體制造之一翼的企業,我們將面對持續的挑戰


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六甲電子株式會社

郵政編號: 663-8105
兵庫縣西宮市中島町8-5



加盟団体

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SiCアライアンス

SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会

パワーデバイス・イネーブリング協会

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▼ 六甲電子的優勢

レックス光学の強み

我們可對應具有高精度要求的矽晶圓正面和背面的減薄和拋光,進行一條龍式高精度的加工,快速交貨。
另外,我們可以對應關於多種多樣的MEMS等特殊減薄・拋光加工處理。無論是量產還是試作,我們可以由一片開始接單。
我們的優勢,就在於我們可以根據客戶的各種需求,進行減薄・拋光的整體性加工。.

■ 加工品目
減薄・拋光的一條龍式加工 ●  集倒角、研磨、拋光、清洗於一體的加工流程

我們採用一致的倒角、研磨、拋光和清洗工藝,對晶圓進行加工和管理,以達到感測器和功率裝置所需的超薄度和鏡面光潔度。我們可處理 4 至 8 英吋的晶圓尺寸,拋光後的厚度(原型到批量生產)≤ 100 微米。除了這項一致的製程之外,我們還能滿足各種不同的加工需求,例如研磨拋光(Ra:2-3 奈米)和僅拋光。
測試片的再生處理 ●  測試片的再生處理

我們提供您製程各階段所需的顯示器晶圓精加工和拋光服務。我們將根據您的需求提供客製化服務,包括厚度控制、顆粒控制和金屬污染控制。我們可處理 4 吋至 8 吋的晶圓尺寸。
MEMS加工 ●  MEMS加工

對各種各樣MEMS的特種減薄和拋光的試作加工,我們從一片開始承接,並且批量生產的案子也可以接單。
我們對SOI・GWSS晶圓、開孔・cavity構造・矽穿孔・非圓形等晶片有進行過減薄→拋光的一條龍式加工經驗。
晶圓鍵合
晶圓鍵合

需要將矽和化合物晶圓加工至≤100μm的厚度,但使用單片晶圓有一些局限性,例如將減薄後的晶圓轉移到下一工序。對於此類晶圓,需要使用支撐基板對其進行持續支撐,直到進行切割工序。
高平整度加工
高平整度加工

鑑於各種裝置的多樣化需求,某些情況下需要對基板進行超薄和超平坦化處理。為滿足這些需求,本公司已實現襯底的超薄和超平坦化(將面內厚度變化控制在奈米級),並可進行氧化膜平坦化處理。
?化?晶圓加工
碳化矽晶圓加工

我們可以對尺寸達 8 英寸的 SiC 晶片進行研磨、拋光、RCA 清洗、各種檢測和外延再生。
複合加工
複合加工

我們可以處理各種類型的複合晶圓,並提供加工和檢測服務。 ⇒ 詳情請參閱複合晶圓頁面

■ 加工質量
在工廠車間內清潔的空間進行晶圓加工。
此外,我們取得了環境管理體系「ISO14001認證」和質量管理體系「ISO9001認證」並達到了國際標準。
質量方針 ●  質量方針
本公司把質量保證放在第一位。為了提供最高質量的矽晶圓的厚度精度和拋光面的精度等,我們將對所有產品逐一進行嚴格地管理。
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